BPatG 154 05.11 BUNDESPATENTGERICHT 23 W (pat) 30/16 _______________ (Aktenzeichen) Verkündet am 22. November 2016 … B E S C H L U S S In der Beschwerdesache … betreffend die Patentanmeldung 10 2012 201 457.8 hat der 23. Senat (Technischer Beschwerdesenat) des Bundespatentgerichts auf die mündliche Verhandlung vom 22. November 2016 unter Mitwirkung des Vorsit-zenden Richters Dipl.-Phys. Dr. Strößner sowie der Richter Dipl.-Phys. Dr. Friedrich, Dipl.-Phys. Dr. Zebisch und Dr. Himmelmann - 2 - beschlossen: Die Beschwerde wird zurückgewiesen G r ü n d e I. 1. Die vorliegende Patentanmeldung mit dem Aktenzeichen 10 2012 201 457.8 und der Bezeichnung „Verfahren zum Herstellen eines opto-elektronischen Bauelements und optoelektronisches Bauelement“ wurde am 1. Februar 2012 beim Deutschen Patent- und Markenamt von der O… … GmbH elektronisch eingereicht. Gleichzeitig mit der Anmeldung wurde ein Rechercheantrag gestellt. Die Anmeldung wurde am 1. August 2013 mit der DE 10 2012 201 457 A1 offengelegt. Mit Schriftsatz vom 28. Mai 2014 hat die O… GmbH Prüfungsantrag gestellt. 2. Die Prüfungsstelle für Klasse H01L hat im Prüfungsverfahren auf den im Rechercheverfahren ermittelten Stand der Technik gemäß den folgenden Druck-schriften verwiesen: D1 WO 2010/140 980 A1, D2 WO 2009/127 842 A1, D3 GB 2 333 897 A und D4 JP 2012-006 154 A. Sie hat in einem Bescheid vom 11. November 2015 ausgeführt, dass das mit An-spruch 1 beanspruchte Verfahren und der mit dem nebengeordneten Anspruch 8 beanspruchte Gegenstand mangels Neuheit (§ 3 PatG) nicht patentfähig seien. - 3 - Zudem bliebe auf Grund der gewählten Formulierung mit dem Adjektiv „ungefähr“ unklar, was nicht unter Schutz gestellt werden solle (§ 34 Abs. 3 Nr. 3 PatG). Die Anmelderin hat der Prüfungsstelle in einer Eingabe vom 28. Januar 2016 in allen Punkten widersprochen und mit diesem Schriftsatz einen neuen Satz von Patentansprüchen eingereicht. Zur daraufhin angesetzten Anhörung am 15. Februar 2016 ist, wie vorher schrift-lich angekündigt, kein Vertreter der Anmelderin erschienen. In der Folge hat die Prüfungsstelle die Anmeldung mit Beschluss vom 18. Februar 2016 zurückgewie-sen, weil der in Anspruch 1 verwendete Begriff „ungefähr“ zu einem Merkmal führe, das subjektive Eindrücke vermittle und nicht dazu geeignet sei, einen Ge-genstand zu charakterisieren. Es bleibe somit unklar, was und was nicht unter Schutz gestellt werden solle (§ 34 Abs. 3 Nr. 3 PatG). 3. Gegen diesen, der Anmelderin am 22. Februar 2016 zugestellten Beschluss hat die Anmelderin mit Schriftsatz vom 18. März 2016, am 21. März 2016 über Fax beim Deutschen Patent- und Markenamt eingegangen, Beschwerde eingelegt, die sie in diesem Schriftsatz auch begründet hat. Mit ihrem Beschwerdeschriftsatz hat die Anmelderin einen weiteren Satz Patentansprüche als Hilfsantrag eingereicht. 4. Mit der Ladung zur mündlichen Verhandlung hat der Senat die Anmelderin noch auf die Druckschriften D5 US 2003/0 230 971 A1 und D6 JP 2002-324 664 A hingewiesen und unter anderem ausgeführt, dass die D5 möglicherweise bereits für sich allein die Patentfähigkeit der Gegenstände der selbstständigen Ansprü-che 1 und 4 beider Anträge in Frage stellen könnte. - 4 - 5. Zur mündlichen Verhandlung am 22. November 2016 ist die Anmelderin, wie vorab angekündigt, nicht erschienen. Damit beantragt die Anmelderin entspre-chend den im Beschwerdeschriftsatz vom 18. März 2016 gemachten Ausführun-gen sinngemäß: 1. den Beschluss der Prüfungsstelle für Klasse H01L des Deut-schen Patent- und Markenamts vom 18. Februar 2016 auf-zuheben. 2.a) Hauptantrag Ein Patent zu erteilen mit der Bezeichnung „Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements und opto-elektronisches Bauelement“, dem Anmeldetag 1. Februar 2012 auf der Grundlage folgender Unterlagen: - Patentansprüche 1 bis 14 gemäß Hauptantrag, einge-gangen im Deutschen Patent- und Markenamt am 30. Januar 2016; - Beschreibungsseiten 1 bis 35, - 3 Blatt Zeichnungen mit Figuren 1 bis 4, jeweils einge-gangen im Deutschen Patent- und Markenamt am Anmeldetag. 2.b) Hilfsantrag Hilfsweise für die unter 2.a) genannte technische Neuerung ein Patent zu erteilen auf der Grundlage folgender Unterlagen: - Patentansprüche 1 bis 14 gemäß Hilfsantrag, eingegangen im Deutschen Patent- und Markenamt am 21. März 2016; - die unter 2.a) genannten Beschreibungsseiten und Zeichnungen. - 5 - 6. Der geltende, mit Schriftsatz vom 28. Januar 2016 eingereichte An-spruch 1 nach Hauptantrag lautet (Gliederung bei unverändertem Wortlaut ein-gefügt): „1. Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauele-ments (200), wobei das Verfahren aufweist: 1.1 • Aufbringen eines Planarisierungsmediums (104) auf eine Oberfläche eines Glas-Substrats (102), 1.1.1 wobei das Planarisierungsmedium (104) aus einem Material (106) gebildet wird, welches elektromagneti-sche Strahlung mit Wellenlängen von maximal 400 nm absorbiert, und 1.1.2 im Wesentlichen frei ist von Trägermaterial (108) oder Matrixmaterial (108); und 1.2 • Aufbringen einer ersten Elektrode (112) auf oder über einer Oberfläche des Planarisierungsmediums (104); 1.3 • Bilden einer organischen funktionellen Schichtenstruktur (114) auf oder über der ersten Elektrode (112); und 1.4 • Bilden einer zweiten Elektrode (116) auf oder über der organischen funktionellen Schichtenstruktur (114), und 1.5 • wobei das Planarisierungsmedium (104) mit einer Dicke über der Oberfläche des Glas-Substrats (102) ausgebildet wird, dass ungefähr 85 % bis ungefähr 99 % der elektromag-netischen Strahlung mit Wellenlängen von maximal 400 nm, die in das Planarisierungsmedium (104) gelangt, absorbiert wird und 1.6 die Oberfläche des Planarisierungsmediums (104), auf der die transparente, erste Elektrode ausgebildet wird, eine vor-gegebene Rauheit aufweist.“ - 6 - Der weitere selbstständige Anspruch 4 nach Hauptantrag lautet (mit redaktio-nellen Korrekturen und bei ansonsten unverändertem Wortlaut eingefügter Gliede-rung): „4. Optoelektronisches Bauelement (200), aufweisend: 4.1 • ein Glas-Substrat (102); 4.2 • ein auf einer Oberfläche des Glas-Substrats (102) aufge-brachtes Planarisierungsmedium (104), 4.2.1 wobei das Planarisierungsmedium (104) ein Material (106) aufweist, welches Strahlung mit Wellenlängen von maximal 400 nm absorbiert; und 4.2.2 im Wesentlichen frei ist von Trägermaterial (108) und Matrixmaterial (108); und 4.3 • eine transparente, erste Elektrode (112) auf oder über dem Material (106); 4.4 • eine organische funktionelle Schichtenstruktur (114) auf oder über der ersten Elektrode (112); und 4.5 • eine zweite Elektrode (116) auf oder über der organischen funktionellen Schichtenstruktur (114); 4.6 • wobei das Planarisierungsmedium (104) eine Dicke über der Oberfläche des Glas-Substrats (102) aufweist, dass ungefähr 85 % bis ungefähr 99 % der elektromagnetischen Strahlung mit Wellenlängen von maximal 400 nm, die in das Planarisie-rungsmedium (104) gelangt, absorbiert wird und 4.7 die Oberfläche des Planarisierungsmediums (104), auf der die transparente, erste Elektrode ausgebildet ist, eine vorgege-bene Rauheit aufweist.“ Die Ansprüche 1 und 4 nach Hilfsantrag unterscheiden sich von denen des Hauptantrags lediglich dadurch, dass im Merkmal 1.5 bzw. 4.6 vor den Prozentan-gaben jeweils das Wort „ungefähr“ weggelassen ist. - 7 - Hinsichtlich der weiteren, jeweils auf Anspruch 1 bzw. 4 rückbezogenen Ansprü-che 2 und 3 sowie 5 bis 14 des Haupt- und des Hilfsantrags wird, wie auch hin-sichtlich der weiteren Einzelheiten, auf den Akteninhalt verwiesen. II. Die form- und fristgerecht erhobene Beschwerde der Anmelderin ist zulässig, er-weist sich aber als nicht begründet, da die mit den Ansprüchen 4 des Hauptan-trags und des Hilfsantrags beanspruchten optoelektronischen Bauelemente ge-genüber der Druckschrift D5 auf keiner erfinderischen Tätigkeit des Fachmanns beruhen (§ 4 PatG), weshalb sie nicht patentfähig sind. 1. Die vorliegende Anmeldung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements sowie ein optoelektronisches Bauelement (vgl. S. 1, Z. 6 bis 8 der geltenden Beschreibung). Die Materialien von optoelektronischen Bauelementen, insbesondere von organi-schen Leuchtdioden nehmen bei zu starker Bestrahlung mit ultraviolettem (UV) Licht Schaden, was sich negativ auf die Leistungsdaten auswirkt. Dies sind bei-spielsweise eine erhöhte Betriebsspannung oder eine Verringerung der Strom-Ef-fizienz bzw. der Quantenausbeute bis hin zum Ausfall der Lichtemission. Diese können die gesamte aktive Fläche betreffen oder auch lokal auftreten. Ferner können die organischen Materialien so weit geschädigt werden, dass stellenweise keine Lichtemission oder Konversion mehr stattfindet und somit die aktive Leucht-fläche des optoelektronischen Bauelements verkleinert wird. Die UV-Absorption der üblicherweise verwendeten Natron-Kalk-Flachgläser (so genanntes Soda Lime Floatglas) ist nicht ausreichend, um eine Schädigung einer organischen Leuchtdiode (OLED) zu verhindern. Soda Lime Floatglas hat zwar unterhalb von 300 nm eine hinreichende Absorption, ist aber gerade in einem Be-- 8 - reich von 300 nm bis 400 nm (dies entspricht im Wesentlichen dem Wellenlän-genbereich der UV-A Strahlung) teilweise durchlässig. Generell ist es möglich, zusätzliche UV-absorbierende Folien oder Schichten auf der Außenseite des Substrats einer OLED aufzubringen. Dies hat jedoch den Nachteil, dass die üblicherweise verwendete hochwertige Glasoberfläche nicht erhalten werden kann, und die OLED zusätzlich anfälliger gegen ein Verkratzen ist. Es ist weiterhin alternativ möglich, UV-absorbierende Eigenschaften in das Substratglas zu integrieren, beispielweise durch Verändern der Glas-Rezeptur. Allerdings ist diese Lösung mit vergleichsweise hohem Aufwand verbunden und verändert in der Regel zahlreiche andere Eigenschaften des Glases einer OLED. Insbesondere sind solche Gläser teurer als die üblicherweise verwendeten Soda Lime Floatgläser. So beschreibt die DE 696 32 227 T2 eine elektrochrome Vorrichtung, bei der min-destens eine transparente elektrisch leitende Platte mit einer UV-absorbierenden Schicht versehen ist, wobei die UV-absorbierende Schicht zwischen einem trans-parenten Substrat und einer transparenten Elektrode angeordnet ist. Die UV-ab-sorbierende Schicht enthält einen organischen UV-Absorber und kann im Wesent-lichen aus einem UV-Absorber alleine oder aus einem organischen UV-Absorber und einer Grundschicht bestehen. Die Dicke der UV-absorbierenden Schicht be-trägt 10 nm bis 100 µm. Üblicherweise wird zum Aufbringen eines UV-Absorbers auf ein Substrat das Sub-strat planarisiert, und anschließend wird der UV-Absorber, welcher in ein Matrix-material eingebettet ist, auf das planarisierte Substrat aufgebracht. Dieser Planari-sierungsschritt ist jedoch aufwändig und teuer. Vor diesem Hintergrund liegt der Anmeldung als technisches Problem die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Herstellen eines gegenüber UV-Strahlung ge-schützten optoelektronischen Bauelements sowie ein optoelektronisches Bauele-- 9 - ment bereitzustellen, welches kostengünstiger durchführbar bzw. herstellbar ist (vgl. S. 1, Z. 10 bis S. 2, Z. 31 der geltenden Beschreibung). Diese Aufgabe wird durch die Verfahren bzw. Gegenstände der Ansprüche 1 und 4 des Haupt- und des Hilfsantrags gelöst. Das mit Anspruch 4 beanspruchte optoelektronische Bauelement weist von „un-ten“ nach „oben“ zumindest folgende Bestandteile auf: Ein Glassubstrat, ein Planarisierungsmedium, eine transparente erste Elektrode, eine organische Schichtenstruktur und eine zweite Elektrode. Besonders ausgebildet wird dabei das Planarisierungsmedium. Es absorbiert Strahlung mit Wellenlängen von maxi-mal 400 nm, d. h. insbesondere UV-Strahlung, und ist dabei so dick ausgebildet, dass 85 % bis 99% der elektromagnetischen Strahlung mit Wellenlängen von ma-ximal 400 nm, die in das Planarisierungsmedium gelangt, absorbiert wird. Gemäß den Ansprüchen des Hauptantrags ist die Dicke der Schicht so zu wählen, dass diese Werte lediglich „ungefähr“ eingehalten werden. Hierbei bleibt offen, wie weit die Abweichungen sein dürfen. Außerdem wird angegeben, dass das Planarisierungsmedium im Wesentlichen frei von Trägermaterial und Matrixmaterial ist. Es bleibt auf Basis der Offenbarung offen, wie genau dieses Merkmal auszulegen ist, jedoch kann dieses derart ver-standen werden, dass es sich bei dem Planarisierungsmedium um ein einheitli-ches Material handelt, bei dem die Bestandteile nicht unterscheidbar sind. Zudem weist die Oberfläche des Planarisierungsmediums, auf der die erste Elekt-rode ausgebildet ist, eine vorgegebene Rauheit auf. Dabei wird nicht angegeben, wie groß diese konkret ist, oder durch was sie vorgegeben ist. Dieses Merkmal schränkt den beanspruchten Gegenstand somit nicht weiter ein, denn die Oberflä-che weist immer eine Rauheit auf, die durch irgendetwas, sei es das Material, den Herstellungsprozess oder einen anderen Einfluss, vorgegeben ist. - 10 - Das in Anspruch 1 beanspruchte Verfahren enthält keine anderen Merkmale als der Gegenstand von Anspruch 4. Insbesondere werden keine weiteren Details für den Herstellungsprozess der angegebenen Schichten beansprucht. 2. Als zuständiger Fachmann ist hier ein Physiker oder Chemiker mit Hochschulabschluss und guten Kenntnissen der physikalischen Chemie zu defi-nieren, der mit der Entwicklung von organischen optoelektronischen Bauelemen-ten betraut ist. 3. Die Gegenstände des Anspruchs 4 nach Hauptantrag und nach Hilfsantrag ergeben sich für den Fachmann in naheliegender Weise aus der Lehre der Druck-schrift D5 (§ 4 PatG), sodass sie nicht patentfähig sind. Bei dieser Sachlage kann die Erörterung der Zulässigkeit der Ansprüche dahingestellt bleiben (vgl. BGH GRUR 1991, 120, 121, II.1 – „Elastische Bandage“). 3.1 Aus der Druckschrift D5 ist in Anlehnung an den Wortlaut des Anspruchs 4 nach Hauptantrag ein 4. optoelektronisches Bauelement bekannt (vgl. die Bezeichnung: „Electroluminescent display device“; siehe Fig. 1), das Folgendes aufweist: 4.1’ ein transparentes Substrat (insulating substrate 10; vgl. Abs. [0021]: „An ultraviolet protection film 50 formed by applying an acrylic transparent resin is provided on the entire surface of an insulating substrate 10.“ Das Substrat 10 ist ferner lichtdurchlässig ausgebildet, wie aus Abs. [0022] hervorgeht: „This cathode 30 is an opaque conductive film, and light emitted from the light emitting layer 22 passes through the insulating substrate 10 as the light for the display device. This structure is a typical bottom emission structure, which allows viewing of light through the substrate 10.“); - 11 - 4.2 ein auf einer Oberfläche des transparenten Substrats (10) aufgebrach-tes Planarisierungsmedium (ultraviolet protection film 50; vgl. die bereits zitierte Stelle in Abs. [0021]; dass die Schicht 50 auch als Planarisierungsmedium wirkt, ergibt sich für den Fachmann aus Fig. 4 i. V. m. Abs. [0050]: „The reason for use of an acrylic resin is that the acrylic resin cuts off ultraviolet rays, and at the same time is able to make the surface of the device intermediate flat enough for the sub-sequent processing steps. Accordingly, the ultraviolet protection film 117 also serves as a flattening film. When the first resin shown in FIGS. 2A and 2B is used, the ultraviolet protection film, which is also the flattening film, is applied on the substrate by spin coating.“. Der dort beschriebene UV-Schutzfilm 117 besteht aus demselben Material wie der UV-Schutzfilm 50 in Fig. 1.), 4.2.1 wobei das Planarisierungsmedium (50) ein Material aufweist, welches Strahlung mit Wellenlängen von maximal 400 nm absorbiert (siehe Fig. 2, durch-gezogene Linie i. V. m. Abs. [0035]: „The film made of the first resin is most suita-ble, among the three films shown in FIG. 2A, for the ultraviolet protection film 50 of this embodiment. The transmission of this film is equal to or higher than 90% above 440 nm and equal to or higher than 85% above 430 nm, and does not ex-ceed 0.01% at any wavelength below 350 nm.“); und 4.2.2 im Wesentlichen frei ist von Trägermaterial und Matrixmaterial (vgl. Abs. [0031]: „FIGS. 2A and 2B show the transmission characteristics of ultraviolet protection film 50 of this embodiment. Three acrylic resins were formed as the ul-traviolet protection film 50 and the transmission characteristics of the three films were measured.“. Die Angabe, dass das Planarisierungsmedium aus einem Acryl-harz besteht, lässt darauf schließen, dass es keine weiteren Materialien, insbe-sondere kein Trägermaterial oder Matrixmaterial enthält.); und 4.3 eine transparente, erste Elektrode (anode 20) auf oder über dem Material (50; vgl. Abs. [0021]: „As shown in FIG. 6A, linear anodes 20 made of ITO extend vertically in the figure…“); - 12 - 4.4 eine organische funktionelle Schichtenstruktur (organic EL layers 25) auf oder über der ersten Elektrode (20; vgl. Abs. [0021]: „An organic EL element 31, which includes the anode 20, the cathode 30 and organic EL layers 25 having light emitting layers made of an organic material placed between the two elec-trodes 20, 30, is provided at the intersections of the anodes 20 extending vertically and the cathodes 30 extending horizontally.“); und 4.5 eine zweite Elektrode (cathode 30) auf oder über der organischen funktionellen Schichtenstruktur (25; vgl. die bereits zitierten Stellen in Abs. [0021]). 4.6 wobei das Planarisierungsmedium (50) eine Dicke über der Oberflä-che des Glas-Substrats (10) aufweist, dass ungefähr 85 % bis ungefähr 99 % der elektromagnetischen Strahlung mit Wellenlängen von maximal 400 nm, die in das Planarisierungsmedium (50) gelangt, absorbiert wird (siehe die durchgezogene Linie in Fig. 2. Dort wird bei Wellenlängen unter 400 nm ein Anteil von über 99 % und damit von ungefähr 99 % der Strahlung absorbiert) und 4.7 die Oberfläche des Planarisierungsmediums (50), auf der die transparente, erste Elektrode ausgebildet ist, eine vorgegebene Rauheit aufweist (Dies ist immer der Fall. In Abs. [0050] wird auf die Rauheit eingegangen). Damit ist für das in Fig. 1 der Druckschrift D5 dargestellte optoelektronische Bau-element lediglich das in Anspruch 4 beanspruchte Merkmal, dass es sich bei dem Substrat um ein Glassubstrat handelt (Merkmal 4.1), nicht explizit offenbart. Dies wird aber durch Druckschrift D5 bereits nahegelegt, denn dort wird in Zusammen-hang mit dem alternativen, in Fig. 4 gezeigten Ausführungsbeispiel als transpa-rentes isolierendes Substrat (110) ein Glassubstrat verwendet (vgl. Abs. [0042]: „In the second TFT 140, a gate electrode 141 made of a high melting point metal, such as Cr and Mo, or its alloy is provided on the insulating substrate 110 made of a non-alkali glass, and a gate insulating film 112 and an active layer 143 formed of a poly-silicon film are formed in this order.”). Es liegt nun für den Fachmann nahe, - 13 - das transparente isolierende Substrat (10) aus Fig. 1, für das es in der Druck-schrift D5 keine Materialangebe gibt, in gleicher Weise wie das Substrat (110) bei der in Fig. 4 gezeigten Ausführungsform als Glassubstrat auszuführen. Damit ge-langt der Fachmann auch zum Merkmal 4.1 und damit insgesamt zum Gegen-stand des Anspruchs 4 des Hauptantrags, so dass dieser nicht patentfähig ist. 3.2 Der Gegenstand des Anspruchs 4 des Hilfsantrags unterscheidet sich von dem des Anspruchs 4 nach Hauptantrag lediglich im Merkmal 4.6, wo vor den Prozentangaben jeweils das Wort „ungefähr“ weggelassen ist. Druckschrift D5 offenbart in Fig. 2 eine Absorption der Acrylschichten, die deutlich größer als 99 % ist. Sie beträgt, wie aus Fig. 2A ersichtlich ist, mindestens 99,99 %, was im Rahmen der für Anspruch 4 des Hilfsantrags anzunehmenden Genauigkeit mit 100 % gleichzusetzen ist. Die Transmission bei Wellenlängen über 400 nm beträgt etwa 90 % (vgl. auch Abs. [0035]). Aus der Druckschrift D5 geht nicht eindeutig hervor, für welche Dicke des Materials die in Fig. 2 gezeigten Transmissionen gemessen wurden. Dem Fachmann ist aber bekannt, dass er die Transmission erhöhen kann, wenn er die Dicke der Schicht (50) verringert. Da die Transmission für die erzeugte Strahlung lediglich etwa 90 % beträgt (siehe Fig. 2B), ist es naheliegend, diese Transmission zu erhöhen, indem die Schichtdi-cke verringert wird. Dies führt auch zu einer Verringerung der Absorption unter 400 nm. Der Fachmann wird somit die Dicke der UV-Absorptionsschicht optimie-ren, um bei einer ausreichenden UV-Absorption zu einer möglichst geringen Ab-sorption des Lichts der übrigen Wellenlängen zu gelangen. Dabei bleibt er im Rahmen der Lehre der Druckschrift D5, wenn er die Dicke der Schicht soweit her-absetzt, dass bis zu 1% der UV-Strahlung mit Wellenlängen unter 400 nm durch-gelassen wird, also nur 99 % absorbiert werden (vgl. Abs. [0024]: „The ultraviolet protection film 50 of this embodiment has a transmission of 80% or higher as an average over the visible region and a transmission of 1% or lower as an average over the ultraviolet region. In this embodiment, a film that has a visible-range - 14 - transmission at least 80 times as high as the ultraviolet-range transmission is ef-fectively used as the ultraviolet protection film.” und Patentanspruch 1). Damit ist der Gegenstand des Anspruchs 4 des Hilfsantrags für den Fachmann ebenfalls durch die Lehre der Druckschrift D5 nahegelegt und damit nicht patent-fähig. 4. Es kann dahingestellt bleiben, ob die Verfahren nach den Ansprüchen 1 der beiden Anträge oder die Gegenstände und Verfahren nach den Unteransprüchen patentfähig sind, denn wegen der Antragsbindung im Patenterteilungsverfahren fallen mit den selbstständigen Patentansprüchen 4 auch die Ansprüche 1, die der Senat im Übrigen aus den zu Anspruch 4 dargelegten Gründen ebenfalls für nicht patentfähig erachtet, und die auf die selbständigen Ansprüche rückbezogenen Unteransprüche (vgl. BGH GRUR 2007, 862, 863 Tz. 18 - Informationsübermitt-lungsverfahren II). 5. Bei dieser Sachlage war die Beschwerde der Anmelderin zurückzuweisen. - 15 - III. R e c h t s m i t t e l b e l e h r u n g Gegen diesen Beschluss steht der Anmelderin das Rechtsmittel der Rechtsbe-schwerde zu. Sie ist nur statthaft, wenn einer der nachfolgenden Verfahrensmän-gel gerügt wird, nämlich 1. dass das beschließende Gericht nicht vorschriftsmäßig besetzt war, 2. dass bei dem Beschluss ein Richter mitgewirkt hat, der von der Ausübung des Richteramtes kraft Gesetzes ausgeschlossen oder wegen Besorgnis der Befangenheit mit Erfolg abgelehnt war, 3. dass einem Beteiligten das rechtliche Gehör versagt war, 4. dass ein Beteiligter im Verfahren nicht nach Vorschrift des Geset-zes vertreten war, sofern er nicht der Führung des Verfahrens aus-drücklich oder stillschweigend zugestimmt hat, 5. dass der Beschluss aufgrund einer mündlichen Verhandlung ergangen ist, bei der die Vorschriften über die Öffentlichkeit des Verfahrens verletzt worden sind, oder 6. dass der Beschluss nicht mit Gründen versehen ist. Die Rechtsbeschwerde ist innerhalb eines Monats nach Zustellung des Be-schlusses schriftlich durch einen beim Bundesgerichtshof zugelassenen Rechtsanwalt als Bevollmächtigten beim Bundesgerichtshof, Herrenstr. 45 a, 76133 Karlsruhe, ein-zureichen oder durch einen beim Bundesgerichtshof zugelassenen Rechtsanwalt als Bevollmäch-tigten in elektronischer Form bei der elektronischen Poststelle des BGH, www.bundesgerichtshof.de/erv.html. Das elektronische Dokument ist mit einer prüfbaren qualifizierten elektronischen Signatur nach dem Signaturgesetz oder mit einer prüfbaren fortgeschrittenen elektronischen Signatur zu versehen. Die Eig-nungsvoraussetzungen für eine Prüfung und für die Formate des elektronischen - 16 - Dokuments werden auf der Internetseite des Bundesgerichtshofs www.bundesgerichtshof.de/erv.html bekannt gegeben. Dr. Strößner Dr. Friedrich Dr. Zebisch Dr. Himmelmann prö

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