BPatG 154
05.11

BUNDESPATENTGERICHT



17 W (pat) 3/15
_______________
(Aktenzeichen)



Verkündet am
2. Mai 2017
…




B E S C H L U S S

In der Beschwerdesache

betreffend die Patentanmeldung 10 2009 030 810.5

…






hat der 17. Senat (Technischer Beschwerdesenat) des Bundespatentgerichts
auf die mündliche Verhandlung vom 2. Mai 2017 unter Mitwirkung des
Vorsitzenden Richters Dipl.-Phys. Dr. Morawek, der Richterinnen Eder und
Dipl.-Phys. Dr. Thum-Rung sowie des Richters Dipl.-Phys. Dr. Müller
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beschlossen:

Auf die Beschwerde der Anmelderin wird der Beschluss der Prü-
fungsstelle für Klasse G 02 B des Deutschen Patent- und Marken-
amts vom 25. November 2014 aufgehoben und das Patent mit fol-
genden Unterlagen erteilt:

Patentansprüche 1–7 und
Beschreibung Seiten 2–10 mit 2 Seiten Einschub, jeweils über-
reicht in der mündlichen Verhandlung,

7 Blatt Zeichnungen mit Figuren 1–7 vom 06.12.2013.


G r ü n d e

I.

Die vorliegende Patentanmeldung wurde am 26. Juni 2009 beim Deutschen
Patent- und Markenamt eingereicht. Sie trägt nunmehr die Bezeichnung

„Beschichtetes Band für einen optischen Reflektor“.

Die Prüfungsstelle für Klasse G02B hat am 25. November 2014 aus den Gründen
des Bescheids vom 14. Januar 2014 die Anmeldung zurückgewiesen. In diesem
Bescheid ist ausgeführt, dass der damals geltende Patentanspruch 1 und die
nebengeordneten Patentansprüche 8, 9 und 10 mangels erfinderischer Tätigkeit
nicht gewährbar seien.

Gegen den Beschluss wendet sich die am 23. Dezember 2014 eingegangene
Beschwerde der Anmelderin.
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Der Vertreter der Anmelderin stellte den Antrag,

den angegriffenen Beschluss aufzuheben und das nachgesuchte
Patent mit folgenden Unterlagen zu erteilen:

Patentansprüche 1 bis 7 und
Beschreibung Seiten 2 bis 10 mit 2 Seiten Einschub, jeweils über-
reicht in der mündlichen Verhandlung,
7 Blatt Zeichnungen mit Figuren 1 bis 7 vom 6. Dezember 2013.

Im Prüfungsverfahren vor dem Deutschen Patent- und Markenamt sind folgende
Druckschriften genannt worden:

D1: US 6 848 797 B1 (Mitglied der Patentfamilie zu der in der Anmeldung
genannten EP 1 129 318 B1)

D2: DE 100 05 121 A1.

Vom Senat wurden zusätzlich die Druckschriften

D3: B. Jacoby et al.: „Abscheidung, Charakterisierung und Anwendung
von Plasma-Polymerschichten auf HMDSO-Basis“, Vakuum in Forschung
und Praxis 18 (2006), Nr. 4, pp. 12 – 18

D4: U. Kreissig et al.: “Heavy-ion ERDA and spectroscopic ellipsometry
characterization of a SiOC:H layered structure as functional coating on
polymeric lenses”, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research
B 219 – 220 (2004), pp. 908 – 913

in das Verfahren eingeführt.

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Der geltende Patentanspruch 1 lautet:

„1. Beschichtetes, metallisches, aus Aluminium-Flachmaterial als Substrat
hergestelltes Band für einen optischen Reflektor (10) mit einer Beschich-
tung, enthaltend einen Reflektorkörper (12) mit folgendem Schichtaufbau:
a) zuunterst das Substrat des Reflektorkörpers (12),
b) darüber eine Vorbehandlungsschicht (13), die auf dem Reflektorkör-
per (12) aufgebracht ist oder oberflächlich aus dem Reflektorkörper (12)
selbst gebildet ist,
c) darauf aufgebracht eine funktionelle, unter anderem der Glättung der
Oberfläche dienende Beschichtung (14),
d) darüber eine reflektierende Schicht (15),
e) darüber eine Schutzschicht (20), die der Umgebung ausgesetzt ist,
und Siliziumoxid enthält,
dadurch gekennzeichnet,
f) dass die Schutzschicht (20) eine Zusammensetzung gemäß der For-
mel SiOyCzHa besitzt, worin 1 ≤ y g) wobei nahe der Oberfläche der Anteil des Kohlenstoffs größer ist als
der Anteil des Sauerstoffs.“

Die geltenden Patentansprüche 2 bis 7 lauten:

„2. Band nach Anspruch 1, wobei auf der funktionellen Schicht (14) mit
oder ohne zwischenliegende Haftschicht eine oder mehrere transparente
Schichten (16A, 16B) mit abwechselnd höherem und niedrigerem Bre-
chungsindex aufgebracht ist/sind.

3. Band nach Anspruch 1, wobei auf der funktionellen Schicht (14) mit
oder ohne zwischenliegende Haftschicht eine Lackschicht oder/und eine
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anodisierte Schicht oder/und eine transparente Beschichtung aus einem
dielektrischen Material aufgebracht ist.

4. Band nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Dicke der
Schutzschicht (20) größer oder gleich zwei Nanometer und kleiner als
50 Nanometer ist.

5. Band nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Dicke der
Schutzschicht (20) größer oder gleich zwei Nanometer und kleiner oder
gleich 10 nm ist.

6. Band nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die funktionelle
Schicht (14) basierend auf Siliziumoxid in einer ähnlichen Zusammenset-
zung wie die Schutzschicht (20) ausgebildet ist.

7. Reflektorbauteil enthaltend ein Band nach einem der vorstehenden
Ansprüche 1 bis 6.“

Zu den weiteren Einzelheiten wird auf die Akte verwiesen.


II.

Die Beschwerde ist frist- und formgerecht eingereicht und auch sonst zulässig. Sie
hat Erfolg, da ein Patent nach dem nunmehr geltenden Antrag erteilt werden kann.

1. Die Patentanmeldung betrifft ein beschichtetes Band für einen optischen
Reflektor.

In Abs. [0002] bis [0008] der Beschreibung werden bekannte dünne Deckschich-
ten, u. a. HMDSO-Schichten diskutiert sowie Möglichkeiten zu deren Erzeugung,
- 6 -
etwa durch plasmaverstärkte chemische Gasphasenabscheidung (Plasma Enhan-
ced Chemical Vapor Deposition, PECVD).
Zudem werden in Abs. [0009] bis [0017] bekannte Beschichtungen für Reflektoren
abgehandelt, insbesondere ein in EP 1,129,318 B1 (D1) beschriebener Schicht-
aufbau mit einem Substrat 12, einer Vorbehandlungsschicht 13, einer funktionellen
Beschichtung 14 zur Glättung der Schichtoberfläche und zur Unterstützung einer
perfekten gerichteten Reflexion, einer hierauf aufgebrachten Reflexionsschichten-
folge mit einer reflektierenden Schicht 15 und mehreren transparenten Schich-
ten 16A und 16B, sowie einer aus Siliziumdioxid oder Aluminiumoxid bestehenden,
der Umgebung ausgesetzten, wischfesten Schutzschicht 18.
Die Schutzschicht 18 sei gebildet in Form einer Schicht aus einem Siliziumoxid der
allgemeinem Formel SiOx, wobei x eine Zahl von 1,1 bis 2,0 sei, oder einem Alu-
miniumoxid, und besitze eine Dicke von 3 Nanometern oder größer. Sie liege an
der Oberfläche und schütze die darunter liegenden Schichten gegen mechanische
Beschädigungen (Abs. [0016], [0017]).
Der Nachteil eines solchen reflektierenden Schichtaufbaus bestehe im komplizier-
ten Aufbau und darin, dass die Reflektoren relativ schmutzempfindlich seien (Abs.
[0018]).

Der Patentanmeldung soll die Aufgabe zugrunde liegen, einen qualitativ hochwerti-
gen Schichtaufbau zu erzeugen, der robust und sicher verarbeitet werden kann
und der eine schmutzabweisende, gleichzeitig aber auch eine korrosionsschüt-
zende und abrasionsfeste Oberfläche aufweist, ohne auf mikrometerdicke Be-
schichtungen wie beispielsweise aus einem nasschemischen Anodisierungsvor-
gang angewiesen zu sein (Abs. [0019]).

Die Lehre der vorliegenden Anmeldung, für die mit dem Anspruch 1 Schutz
begehrt wird, besteht im Wesentlichen in Folgendem:

Die Anmeldung geht aus von einem beschichteten, metallischen, aus Aluminium-
Flachmaterial als Substrat hergestellten Band für einen optischen Reflektor mit
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einem Schichtaufbau gemäß den Merkmalen a) bis e), wie er aus D1 bekannt ist;
vgl. Fig. 1 und Abs. [0014].

Der bekannte Reflektor weist auf einem Substrat des Reflektorkörpers (Merk-
mal a)) folgende Schichten auf (in dieser Reihenfolge):

- eine Vorbehandlungsschicht (Merkmal b)),
- eine funktionelle Beschichtung zur Glättung der Schichtoberfläche (Merkmal c)),
- eine reflektierende Schicht (Merkmal d)), auf der eine und mehrere transparente
Schichten mit unterschiedlichem Brechungsindex aufgebracht sein können (Abs.
[0023]), sowie
- eine Siliziumoxid enthaltende, der Umgebung ausgesetzte, wischfeste Schutz-
schicht (Merkmal e)).

Nach der Lehre der Anmeldung soll die der Umgebung ausgesetzte Schutzschicht
eine Zusammensetzung gemäß der Formel SiOyCzHa besitzen, worin 1 ≤ y 0 HMDSO (Hexamethyldisiloxan) durch einen Magnetron-PECVD-Prozess (PECVD
= plasma enhanced chemical vapor deposition, plasmaverstärkte chemische Gas-
phasenabscheidung) abgelagert werden (Abs. [0034], [0053]). Allgemein können
physikalische Gasphasenabscheidung PVD oder chemische Gasphasenabschei-
dung CVD oder eine Kombination aus beidem verwendet werden (Abs. [0079]).

Gemäß Merkmal g) soll zudem nahe der Oberfläche der Anteil des Kohlenstoffs
größer sein als der Anteil des Sauerstoffs. Wenn das lokale Verhältnis von Sauer-
stoff zu Kohlenstoff zur Oberfläche der Schutzschicht auf Werte kleiner 1 abnimmt,
werde eine Hydrophobisierung der Schutzschicht erreicht, d. h. diese werde
zunehmend wasserabweisend und damit schmutzabweisend (Abs. [0075] erste
Hälfte).

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Als Fachmann sieht der Senat hier einen Ingenieur der Fachrichtung Physik, phy-
sikalische Chemie, chemische Verfahrenstechnik oder ähnliches an mit Erfahrung
auf dem Gebiet der optischen Beschichtungen insbesondere von reflektierenden
Metallbändern.

2. Die der Patenterteilung zugrunde liegenden Unterlagen liegen im Rahmen
der ursprünglichen Offenbarung.

Der geltende Patentanspruch 1 geht hervor aus den ursprünglichen Ansprüchen 1,
7 und 8 sowie S. 3 Abs. 2 der ursprünglichen Beschreibung (Offenlegungsschrift
Abs. [0009]).

Die Unteransprüche 2 bis 6 sind die ursprünglichen Ansprüche 2 bis 6.

Der nebengeordnete Patentanspruch 7 geht zurück auf den ursprünglichen Pa-
tentanspruch 10 sowie die oben zum geltenden Patentanspruch 1 genannten Of-
fenbarungsstellen.

Die ebenfalls zulässigen Änderungen in der Beschreibung betreffen teilweise die
Darlegung des Standes der Technik, teilweise ergeben sie sich aus den geänder-
ten Ansprüchen.

3. Die Vorrichtung gemäß dem Anspruch 1 ist neu gegenüber dem belegten
Stand der Technik und beruht auf erfinderischer Tätigkeit.

Dies ergibt sich aus der Würdigung der zum Stand der Technik genannten Druck-
schriften.

3.1. Die Vorrichtung des Anspruchs 1 ist neu gegenüber dem im Verfahren
bekannt gewordenen Stand der Technik.
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Keine der Druckschriften D1 bis D4 zeigt ein beschichtetes Band mit allen im
Anspruch 1 aufgeführten Merkmalen.

Die Druckschrift D1 betrifft einen Reflektor mit einer widerstandsfähigen Oberflä-
che. Es kann sich um streifenförmige Reflektoren handeln, z. B. um Kunststoff-
oder Metallfolien, vorzugsweise aus Aluminium (Sp. 2 Z. 59 bis Sp. 3 Z. 5). Der
Schichtaufbau ist in Fig. 1 i. V. m. Sp. 9 Z. 32 bis Sp. 10 Z. 4 gezeigt: Auf einem
Reflektorkörper bzw. Substrat (107) ist eine Vorbehandlungsschicht („anodized
layer“ 106) aufgebracht, darüber eine funktionelle, u. a. der Glättung der Oberflä-
che dienende Beschichtung („functional layer“ 105; Sp. 5 Z. 56 und 57) und da-
rüber eine reflektierende Schichtenfolge (102), die aus einer reflektierenden
Schicht (104) und einer oder mehreren transparenten Schichten (103) mit unter-
schiedlichem Brechungsindex besteht (Sp. 6 Z. 17 bis 37). Schließlich ist eine
Schutzschicht („protective layer“ oder „protective coat“, 101) aufgebracht, die der
Umgebung ausgesetzt ist und hohe Kratzfestigkeit aufweist, und die Siliziumoxid
enthält (Sp. 1 Z. 61 bis Sp. 2 Z. 3).
Die Siliziumoxid-Schutzschicht hat die allgemeine Formel SiOx, wobei x zwischen
1.1 und 2.0 liegt (Sp. 1 Z. 62 bis 64, Sp. 7 Z. 13 bis 18). Zum Aufbringen von ein-
zelnen oder allen Schichten einer Schichtsequenz b), welche die reflektierende
Schicht, ein oder zwei transparente Schichten sowie die Schutzschicht umfasst
(Sp. 7 Z. 10 bis 18), können verschiedene Verfahren verwendet werden, unter
anderem chemische Gasphasenabscheidung CVD mit oder ohne Plasmaunter-
stützung (Sp. 7 Z. 43 bis 56). Im Ausführungsbeispiel besteht die Schutzschicht
aus SiO2, wobei die reflektierende Schichtenfolge und die Schutzschicht mit Hilfe
physikalischer Gasphasenabscheidung (physical vapor deposition PVD) aufge-
bracht werden (Sp. 10 Z. 10 bis 19 sowie Tabelle).
Hinweise auf Kohlenstoff- und Wasserstoffanteile gemäß den Merkmalen f) und g)
sind D1 nicht zu entnehmen.

D2 betrifft einen Lampenreflektor, wobei ein Grundkörper durch Plasmaablagerung
mit einer Schichtenfolge überzogen wird, die u. a. eine innere Sperrschicht 14
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(vorzugsweise aus plasmadeponiertem HMDSO, Sp. 7 Z. 1 bis 3), eine Reflexi-
onsschicht 18 und eine äußere Sperrschicht 22 aufweist, die durch Polymerisation
in einer Glühentladung aus dem Monomer HMDSO erzeugt wird, wobei unter-
schiedliche Formen von Siliziumoxiden auf der Oberfläche abgelagert werden
(Sp. 7 Z. 4 bis 67). Die am weitesten außen liegende, der Umgebung ausgesetzte
Schicht ist eine Schutzschicht aus hydrophobem Material, die z. B. durch Plasma-
ablagerung in Gegenwart eines Kohlenwasserstoffgases wie Methanol zur Ausbil-
dung einer Plasma-Polymerschicht erzeugt werden kann (Sp. 7 Z. 68 bis Sp. 8
Z. 7). Im alternativen Ausführungsbeispiel der Fig. 4 wird auf der äußeren Sperr-
schicht 22 eine erste Umweltschutzschicht 36 gebildet, wobei beide Schichten
Plasmaablagerungen aus HMDSO sind; die erste Umweltschutzschicht wird
jedoch mit geringerer Plasmaenergie vervollständigt, wobei die sich ergebende
unterschiedliche Struktur der Schicht den Widerstand gegen Kondensation auf der
endgültigen Oberfläche unterstützt (Sp. 9 Abs. 1). Durch kontinuierliche Verstel-
lung des Plasmaenergiepegels von einem hohen auf einen niedrigen Pegel kann
eine Einbereichsschicht (in Form einer Gradientenschicht) anstelle von zwei dis-
tinkten Schichten gebildet werden (Fig. 5).
Konkrete Angaben zu den Sauerstoff-, Kohlenstoff- und Wasserstoffanteilen der
Schicht gehen aus D2 nicht hervor. Auch ist kein Hinweis auf ein metallisches
Band zu erkennen.

In der Druckschrift D3 werden Plasma-Polymerschichten auf HMDSO-Basis unter-
sucht.
Hochwertige siliziumorganische Schichten lassen sich mittels plasmachemischer
Gasphasenabscheidung unter Verwendung des Monomers HMDSO herstellen.
Durch geeignete Wahl von Plasmaleistung und Gasmischungsverhältnis lässt sich
der organische oder anorganische Charakter der Schichten einstellen, wobei an-
wendungstechnisch interessante Gradienten- und Wechselschichten herstellbar
sind (S. 12 li. Sp. Kap. „Zusammenfassung“ erste Hälfte).
Glasartige dünne Schichten finden Anwendung z. B. bei Kunststoff-Brillengläsern,
wo sie zur Erhöhung der Kratzfestigkeit dienen, oder bei Solarzellen (S. 12 re. Sp.
- 11 -
mittl. Abs.). Die Herstellung siliziumorganischer Schichten durch plasmachemische
Gasphasenabscheidung PECVD bietet verschiedene Vorteile, u. a. homogene
Oberflächen, geringen Energie- und Materialaufwand, gute Umweltverträglichkeit
usw. (S. 12 re. Sp. unten bis S. 13 li. Sp. Abs. 1).
Zur Schichtherstellung wird ein Plasmareaktor verwendet (Abb. 1), mit variabler
Plasmaleistung und HMDSO-Zufuhr sowie variabler Sauerstoffzufuhr (S. 13 Kap. 3
„Schichtherstellung“). Vier unter unterschiedlichen Versuchsbedingungen entstan-
dene Schichten wurden mit Röntgen-Photoelektronen-Spektroskopie untersucht,
wobei insbesondere das Verhältnis von Kohlenstoff zu Silizium und das Verhältnis
von Sauerstoff zu Silizium gemessen wurde (S. 14 Kap. 4 „XPS-Analysen“). So-
wohl bei Erhöhung der Sauerstoffzufuhr als auch bei der Erhöhung der Plasma-
leistung steigt der Sauerstoffanteil (O/Si) bis zu einem Sättigungswert von etwa 2
an, wobei im Sättigungsbereich das O/Si-Verhältnis der Stöchiometrie anorgani-
scher, quarzähnlicher Schichten entspricht; der Kohlenstoffgehalt sinkt dagegen,
wobei die Werte stets kleiner als 2 sind (Abb. 2 mit Beschreibung).
Der Wasserstoffanteil kann bei HMDSO-Schichten ohne Sauerstoffzugabe bis zu
50 at. % (Stoffmengenanteil bezogen auf atomare Teilchen) betragen, bei glasarti-
gen Schichten ist der Wasserstoffanteil deutlich geringer (S. 14 re. Sp. Abs. 3). In
polymerartigen Schichten eines Wechselschichtsystems beträgt die Wasserstoff-
konzentration bis zu 40 at. %, in der glasartigen Phase zwischen 10 at. % und
20 at. % (S. 15 re. Sp. le. Abs., Abb. 4).
Die Oberflächenkonzentration von Kohlenstoff kann herstellungsbedingt z. B.
durch organische Verunreinigungen deutlich höher liegen als im Schichtvolumen
(S. 14 Abs. 4 bis S. 15 Abs. 1). Bei der Beschichtung von Elastomeren können
Gradientenschichten verwendet werden, wobei der Anteil von Kohlenstoff beim
Übergang zu den quarzähnlichen äußeren Schichten hin abnimmt (Kap. 7 auf
S. 16 / 17; S. 14 mittl. Sp. Abs. 2 bis re. Sp. Abs. 1, Abb. 2). Merkmal g) ist hier
nicht erfüllt.

In D4 werden Zusammensetzung und Eigenschaften einer Schichtstruktur unter-
sucht, die durch plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PACVD)
- 12 -
auf Polymerlinsen erzeugt wird und als funktionelle Schicht dient. Auf dieser wird
eine Antireflexbeschichtung erzeugt (Titel, Abstract), d. h. die funktionelle Schicht
ist nicht selbst der Umgebung ausgesetzt. Durch Variation des HMDSO:O2-Ver-
hältnisses werden drei unterschiedliche Schichten erzeugt, eine polymerartige
Schicht zur Anbindung an das Substrat, eine zweite flexible, kohlenstoffreiche
Schicht und eine quarzartige Schicht (S. 909 re. Sp. Abs. 2, Fig. 1). Für eine reine
SiO2-Schicht beträgt der gemessene Anteil von Sauerstoff zu Silizium 2 (Fig. 3
unten linker Teil). Fig. 4 zeigt für die drei oben genannten Schichten die Tiefenver-
teilung von Kohlenstoff, Wasserstoff, Sauerstoff und Silizium. In allen drei Schich-
ten liegen die Verhältnisse von Sauerstoff zu Silizium, Kohlenstoff zu Silizium und
Wasserstoff zu Silizium innerhalb der in Merkmal f) angegebenen Bereiche. Der
Kohlenstoffanteil ist stets geringer als der Sauerstoffanteil, d. h. Merkmal g) ist
nicht erfüllt.

3.2. Die Vorrichtung des Anspruchs 1 beruht auch auf erfinderischer Tätigkeit.

Die Druckschriften D1 bis D4 legen es auch in ihrer Kombination nicht nahe, ein
beschichtetes Aluminiumband für einen optischen Reflektor mit einer äußeren, der
Umwelt ausgesetzten Schutzschicht zu versehen, deren Kohlenstoff-, Sauerstoff-
und Wasserstoffanteile in den in Merkmal f) angegebenen Bereichen liegen und
deren Kohlenstoffgehalt nahe der Oberfläche größer ist als der Sauerstoffgehalt
(Merkmal g)).

In den gemäß D3 und D4 mittels plasmachemischer Gasphasenabscheidung
unter Verwendung des Monomers HMDSO hergestellten Schichten, die unter
unterschiedlichen Versuchsbedingungen (unterschiedliche Sauerstoffzufuhr /
unterschiedliche Plasmaleistung) entstanden sind, liegen zwar die Kohlenstoff-
und die Sauerstoffanteile typischerweise jeweils in dem in Merkmal f) angegebe-
nen Bereich, vgl. insbesondere D3 Abb. 2 sowie D4 Fig. 4, jeweils mit Beschrei-
bung; auch der Wasserstoffanteil kann (wie in Merkmal f) gefordert) im Bereich
zwischen Null und Eins liegen, vgl. etwa D4 Fig. 4. Unter den meisten Versuchs-
- 13 -
bedingungen in D3 und allen Versuchsbedingungen in D4 ist jedoch der Kohlen-
stoffanteil wesentlich geringer als der Sauerstoffanteil (D3 Abb. 2, D4 Fig. 4). Ein
höherer Kohlenstoffanteil ist (bei vorgegebener Plasmaleistung) nur für den Fall
sehr geringer Sauerstoffzufuhr ausgewiesen (D3 Abb. 2 a) und b) ganz links); in
solchen Fällen treten jedoch hohe Wasserstoffanteile auf, die außerhalb des in
Merkmal f) angegebenen Bereichs liegen (D3 S. 14 re. Sp. Abs. 3, S. 15 re. Sp.
le. Abs.).

Des Weiteren zeigt D2 eine äußere Schicht, bei deren Herstellung mittels Plasma-
ablagerung aus HMDSO die Beschichtung mit höherer Plasmaenergie begonnen
wird und die Plasmaenergie nach außen hin abnimmt (D2 Fig. 5 mit Beschrei-
bung). Eine solche Vorgehensweise bewirkt ein Ansteigen des Kohlenstoffgehalts
und eine Abnahme des Sauerstoffgehalts nach außen hin, vgl. D3 S. 14 mittl. Sp.
le. Satz bis re. Sp. Abs. 1.

Jedoch legt der bisher bekannt gewordene Stand der Technik es nicht nahe, den
Kohlenstoffgehalt im Außenbereich einer solchen Schicht derart stark zu erhöhen,
dass (bei gleichzeitiger Erfüllung des Merkmals f)) der Anteil des Kohlenstoffs grö-
ßer wird als der Sauerstoffanteil. Vielmehr zeigen insbesondere die für einen grö-
ßeren Bereich unterschiedlicher Plasmaleistungen aufgenommenen Kurven (D3
Abb. 2 c) und d)) stets deutlich höhere Sauerstoffanteile als Kohlenstoffanteile.
Wie oben erläutert, ist ein höherer Kohlenstoffanteil nur in D3 für den Fall sehr
geringer Sauerstoffzufuhr ausgewiesen; hierbei treten jedoch hohe Wasserstoffan-
teile auf, die außerhalb des in Merkmal f) angegebenen Bereichs liegen.

Damit ist dem Verfahren des Patentanspruchs 1 eine erfinderische Tätigkeit nicht
abzusprechen.

Entsprechendes gilt für den auf ein ein Band enthaltendes Reflektorbauteil gerich-
teten, nebengeordneten Patentanspruch 7.

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4. Die Patentansprüche 1 und 7 sind gewährbar.

Die abhängigen Patentansprüche 2 bis 6 sind ebenfalls gewährbar.

Auch die übrigen Voraussetzungen für eine Patenterteilung sind erfüllt.


Rechtsmittelbelehrung

Gegen diesen Beschluss steht den am Beschwerdeverfahren Beteiligten das Rechtsmittel
der Rechtsbeschwerde zu. Da der Senat die Rechtsbeschwerde nicht zugelassen hat, ist
sie nur statthaft, wenn gerügt wird, dass

das beschließende Gericht nicht vorschriftsmäßig besetzt war,
bei dem Beschluss ein Richter mitgewirkt hat, der von der Ausübung des Richteramtes
kraft Gesetzes ausgeschlossen oder wegen Besorgnis der Befangenheit mit Erfolg
abgelehnt war,
einem Beteiligten das rechtliche Gehör versagt war,
ein Beteiligter im Verfahren nicht nach Vorschrift des Gesetzes vertreten war, sofern er
nicht der Führung des Verfahrens ausdrücklich oder stillschweigend zugestimmt
hat,
der Beschluss aufgrund einer mündlichen Verhandlung ergangen ist, bei der die Vor-
schriften über die Öffentlichkeit des Verfahrens verletzt worden sind, oder
der Beschluss nicht mit Gründen versehen ist.

Die Rechtsbeschwerde ist innerhalb eines Monats nach Zustellung des Beschlusses beim
Bundesgerichtshof, Herrenstr. 45 a, 76133 Karlsruhe, durch einen beim Bundesgerichts-
hof zugelassenen Rechtsanwalt als Bevollmächtigten schriftlich einzulegen.


Dr. Morawek Eder Dr. Thum-Rung Dr. Müller

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